RTP ANNEALSYS - 2017 - AS-Micro - Ofen

Pumpe + Computer
ausgestattet
Ausstattung Der Ofen bietet die höchste Temperaturanstiegsrate, bis zu 250 °C/s für 2-Zoll-Wafer.
Temperaturbereich: Umgebungstemperatur bis 1.250 °C
, Temperaturanstiegsrate von bis zu 250 °C/s auf einem Siliziumsubstrat mit 2 Zoll Durchmesser, 200 °C/s über 3 Zoll.
Gasmischungsfähigkeit mit Massenstromreglern.
Vakuumbereich: von Atmosphäre bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe).
Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler.
Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software.